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Une nouvelle méthode de gravure au MIT : en route vers les 2,5 nm ?

Dans le temps, améliorer la finesse de gravure était chose facile, ce qui a bercé l'enfance de bon nombre de nos piliers de comptoir. Désormais, l'opération est bien plus complexe, nécessitant de passer dans d'autres gammes d'UV (par exemple pour le 7nm), et ce n'est sûrement pas Intel, embourbé dans un 10 nm boiteux, qui nous dira le contraire !

Le clap de fin pour le silicium tournera autour des 3nm (commerciaux rappelons-le), après quoi il faudra trouver d'autres solutions pour augmenter les performances. Une nouvelle méthode mise au point par des chercheurs du MIT en collaboration avec l'Université du Colorado permettrait de descendre un cran plus fin. En effet, avec cette technologie, il sera possible d'agir sur les atomes individuellement, ce qui a permis de fabriquer le plus petit transistor 3D au monde, avec une taille de 2,5 nm.

 

Nommée Thermal Atomic Level Atching (thermal ALE pour les amateurs de houblon), cette technique date de 2016 mais est appliquée pour la première fois dans un réacteur test par cette équipe. Le métal retenu est un alliage : de l'arsenide d'indium-gallium (InGaAs), dont les propriétés dépassent celles du silicium classique. L'opération consiste en l'exploitation d'ions liguant emportant avec eux un atome du semi-conducteur. Dans leur expérience, une épaisseur de 0,02 nm était enlevée à chaque cycle d'exposition, c'est que c'est fin ma petite dame !

 

mit atomic fabrication transistors

"Jette ce masque (de gravure) de suite !"

 

On se doute donc que cette manipulation d'atome entraîne un surcoût certain de la chaîne de production. Il est donc peu probable de voir ce procédé appliqué comme tel dans un futur à moyen terme, sauf cas (et tarifs) spécifiques. On croise tous nos doigts pour leur succès ! (Source : MIT News)

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Les 10 ragots
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ouverts à tous, c'est open bar !
par Unragoteursansespace en Auvergne-Rhône-Alpes, le Mardi 11 Décembre 2018 à 20h16  
par pascal2lille le Lundi 10 Décembre 2018 à 22h11
On n'arrête pas le progrès pipeau ...
Fixed.
par pascal2lille, le Lundi 10 Décembre 2018 à 22h11  
On n'arrête pas le progrès ...
par dfd, le Lundi 10 Décembre 2018 à 17h35  
Oussé que le MIT paie sa bibine ? J'ai retenu que ça de l'article...
par Un ragoteur des lumière en Auvergne-Rhône-Alpes, le Lundi 10 Décembre 2018 à 16h45  
Encore la hype sur le MIT pour rincer les américains avec la bulle des crédits étudiants...
par Un ragoteur sans nom embusqué, le Lundi 10 Décembre 2018 à 16h29  
Depuis longtemps on entend parler du graphène, on ne le voit toujours pas venir, il serait temps qu'il arrive enfin.
Pour revenir a l'article, on n'est pas prêt de voir cette technique arriver dans la production de masse.
Mais bon la gravure en dessous de 3 nm n'est pas pour tout de suite ceci dit, on a le temps de la voir venir.
Déjà il faut que le 7 nm soit bon, ce serait bien pour 2019.
par Cristallix, le Lundi 10 Décembre 2018 à 13h47  
par BX lover <3 du Grand Est le Lundi 10 Décembre 2018 à 11h19
C'est bien gentil de réduire la finesse le gravure mais le plus gros problème c'est surtout la distance entre les pistes...
C'est aussi la chaleur qui devient problématique...
par Un médecin des ragots en Auvergne-Rhône-Alpes, le Lundi 10 Décembre 2018 à 11h54  
par Un ragoteur blond de Normandie le Lundi 10 Décembre 2018 à 11h21
pour moi le prochain défi n'est pas la finesse de gravure, mais de se passer de métaux rare ou du moins un maximum comme l'exemple du graphène qui est beaucoup plus abondant.

Faut-il encore que la recherche arrive à réaliser une telle prouesse
+1000
Dépasser le 90 nm sans métal rare est/était une vraie prouesse, alors rien que le 45nm...
par Un ragoteur blond de Normandie, le Lundi 10 Décembre 2018 à 11h21  
pour moi le prochain défi n'est pas la finesse de gravure, mais de se passer de métaux rare ou du moins un maximum comme l'exemple du graphène qui est beaucoup plus abondant.

Faut-il encore que la recherche arrive à réaliser une telle prouesse
par BX lover <3 du Grand Est, le Lundi 10 Décembre 2018 à 11h19  
C'est bien gentil de réduire la finesse le gravure mais le plus gros problème c'est surtout la distance entre les pistes...
par Un rat goth à l'heure embusqué, le Lundi 10 Décembre 2018 à 11h18  
 

3nm (commerciaux rappelons-le)


Donc combien en nm réels hors cette techno ?
C'était pas 5nm la véritable limite ?

Par contre, peu de chances que ça arrive massivement en production à mon avis, l'InGaAs doit rendre la facture beaucoup plus salée à tous les niveaux.
Autant passer au graphène qui montre enfin ses applications réelles (ex: batteries Samsung sur le Galaxy S10), et donc un minimum rentables aujourd'hui pour une production en masse.